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	晶圆术语含义解释
 
	ASEMI带你畅游晶圆世界
 
	晶圆在很多人眼里都是一个谨慎的,一丝不苟的物体,它需要很多工序,它需要很深的钻研,它需要很细的程序。
 
	所以,晶圆的一生当中要经历过多道工序,这也就造就了庞大的晶圆术语词库。
 
	ASEMI半导体要和您一起来研究的,就是这晶圆术语了。
 
	由于晶圆术语实在是太多,ASEMI半导体为了精简,就简单地介绍其中一部分的含义了。
 
	01
 
	套准精度-在光刻工艺中转移图形的精度;
 
	向异性 - 在蚀刻过程中,只做少量或不做侧向凹刻;沾污区域 - 任何在晶圆片表面的外来粒子或物质;
 
	椭圆方位角 - 测量入射面和主晶轴之间的角度;
 
	背面 - 晶圆片的底部表面;
 
	底部硅层 - 在绝缘层下部的晶圆片,是顶部硅层的基础;
 
	双极晶体管 - 能够采用空穴和电子传导电荷的晶体管;
 
	绑定晶圆片 - 两个晶圆片通过二氧化硅层结合到一起,作为绝缘层;
 
	绑定面 - 两个晶圆片结合的接触区;
 
	埋层 - 为了电路电流流动而形成的低电阻路径,搀杂剂是锑和砷;
 
	氧化埋层(BOX) - 在两个晶圆片间的绝缘层。
 
	02
 
	载流子 - 晶圆片中用来传导电流的空穴或电子;
 
	化学-机械抛光- 平整和抛光晶圆片的工艺,采用化学移除和机械抛光两种方式;
 
	卡盘痕迹 - 在晶圆片任意表面发现的由机械手、卡盘或托盘造成的痕迹;
 
	微坑 - 在扩散照明下可见的,晶圆片表面可区分的缺陷;
 
	传导性- 一种关于载流子通过物质难易度的测量指标;
 
	导电类型 - 晶圆片中载流子的类型,N型和P型;
 
	沾污颗粒 - 晶圆片表面上的颗粒;
 
	晶体缺陷 - 部分晶体包含的、会影响电路性能的空隙和层错;
 
	耗尽层 - 晶圆片上的电场区域,此区域排除载流子;
 
	03
 
	凹槽 - 没有被清除的擦伤;
 
	手工印记 - 为区分不同的晶圆片而手工在背面做出的标记;
 
	雾度 - 晶圆片表面大量的缺陷,常常表现为晶圆片表面呈雾状;
 
	空穴 - 和正电荷类似,是由缺少价电子引起的;
 
	晶锭 - 由多晶或单晶形成的圆柱体,晶圆片由此切割而成;
 
	激光散射 - 由晶圆片表面缺陷引起的脉冲信号;
 
	光刻 - 从掩膜到圆片转移的过程;
 
	局部光散射 - 晶圆片表面特征,例如小坑或擦伤导致光线散射,也称为光点缺陷。